TECNOLOGIE DI DEPOSIZIONE DI FILM SOTTILI
cod. 16909

Anno accademico 2009/10
3° anno di corso - Secondo semestre
Docente
Settore scientifico disciplinare
Fisica della materia (FIS/03)
Field
Microfisico e della struttura della materia
Tipologia attività formativa
Caratterizzante
24 ore
di attività frontali
3 crediti
sede:
insegnamento
in - - -

Obiettivi formativi

Il Corso si sviluppa in una parte "teorica" sugli argomenti descritti(≈ 10 ore) ed in una parte "pratica" di sperimentazione delle tecnichedi deposizione di film sottili da svolgersi presso il "Laboratorio FilmSottili" del Dip. di Fisica (≈ 30 ore).<br />Con questa impostazione il corso si prefigge di fornire le informazioni basilari necessarie per poter depositare un film sottile policristallino di qualsiasi elemento o composto sia su substrati amorfi che cristallini.<br /><br />Gli studenti che hannoseguito le lezioni di "Tecnologia del Vuoto e delle Basse Temperature" sono esentati dal seguire le parti 1e 2 (argomenti riguardanti il Vuoto) del presente corso.<br /><br />

Prerequisiti

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Contenuti dell'insegnamento

<br />1 Introduzione alla teoria del vuoto<br />1.1 Che cosa è il vuoto, come si ottiene, concetti fondamentali di fluidodinamica, Portata<br />1.2 Le pompe da vuoto:<br />1.2.1. Pompe per il vuoto primario: Pompa ad acqua, Pompe Rotative, Pompe Root.<br />1.2.2.Pompe per l'alto vuoto e l'ultra-alto vuoto: Pompe a Diffusione, PompeTurbomolecolari, Pompe Criogeniche, Pompe Ioniche, Pompe a Sublimazione.<br /><br />2 Misura del vuoto <br />2.1 Unità di misura<br />2.2 Vacuometri meccanici, a membrana, di Bourdon, <br />2.3 Manometri a liquido, Vacuometro di McLeod, <br />2.4 Vacuometri capacitivi, <br />2.5 Vacuometri termici, Vacuometri a termocoppia, Vacuometri tipo Pirani, <br />2.6 Vacuometri a ionizzazione, Teste a ionizzazione a "catodo caldo", Vacuometri Penning a "catodo freddo", <br />2.7 Analizzatori di gas residuo (RGA).<br /><br />3 Crescita di film sottili policristallini<br />3.1 Condensazione, nucleazione, crescita dei film sottili<br />3.2 Influenza sulla crescita dal substrato<br />3.3 Influenza sulla crescita dai parametri di deposizione<br />3.4 Spessore dei film ( misura ) e loro composizione<br /><br />4 Tecniche di deposizione termiche<br />4.1 Evaporazione semplice<br />4.2 Flash-evaporation<br />4.3 Evaporazione in atmosfera controllata -C S S- (close-spaced sublimation)<br />4.4 Evaporazione di elementi e composti a bassa tensine di vapore - e.b.g.- (electron-beam gun)<br /><br />5 Tecniche di deposizione per Sputtering<br />5.1 Scarica nei gas<br />5.2 Il fenomeno fisico dello sputtering<br />5.3 Sputtering D.C.<br />5.4 Sputtering R.F.<br />5.5 Sputtering R.F. magnetron<br />5.6 Sputtering Reattivo<br />5.7 Influenza dai parametri di deposizione sulla crescita

Programma esteso

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Bibliografia

1)"Introduzione alla Tecnologia del Vuoto", Bruno Ferrario, Patron Editore,Bologna,1999.<br />2)"Handbook of Thin Film Technology", Maissel & Glang, McGraw-Hill, 1997.<br />3) ¿Thin Film Process¿, J. L. Vossen and W. Kern, Academic Press, Inc, 1999<br />4) Appunti dalle lezioni.<br />

Metodi didattici

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Modalità verifica apprendimento

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Altre informazioni

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